半導體器件生產中玻璃硅片須經嚴格清洗。微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導；堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導致各種缺陷。將超聲波清洗機應用到玻璃硅片生產中，不僅環(huán)保還提高產品質量。

      2超聲波清洗設備設備特點

      1.采用最新流行環(huán)保水基清洗工藝.該設計先進、合理,充分考慮了環(huán)保和節(jié)能的要求；

      2.全封閉式結構，運行部件設計防止污染;

      3.清洗機框架和烘干爐內均采用正壓送風形式,保持運行時的風流始終外溢;

      4.清洗區(qū)域與維護區(qū)域隔離開，確保潤滑油脂及運動磨損不會對清洗的產品產生二次污染;

      1清洗原理

      超聲波清洗機是通過超聲波發(fā)生器將高于頻率為20KHz的震蕩信號進行電功率放大后經超聲波換能器(震頭)的逆壓電效應轉換成高頻機械振動能量通過清洗液體中的聲幅射，使清洗液體分子振動并超聲波清洗機產生無數(shù)微小空穴和氣泡。并沿超聲波傳播方向在負壓區(qū)形成、生長，并在正壓區(qū)迅速閉合而產生上千個大氣壓的間瞬間高壓而爆破，形成無數(shù)微觀高壓沖擊波作用于管道璧的成垢雜質并將此粉碎。

      此即稱之為超聲波清洗中的“空化效應”。銅管超聲波清洗機就是基于“空化效應”技術而工作的。從“空化效應”可知空穴和氣泡是在液體中施加高頻(超聲頻率)、高強度的聲波而產生的。為此銅管超聲波清洗機的組成都必須具備以下二個基本部件：高頻高壓大功率電信號的超聲波發(fā)生器、以及能將電能轉化為機械能(即壓電逆效能)并經液體流通過的管道式高聲強換能器。